Захисне покриття (віск) для цементних підлог, 10 кг S.C.2010/S

Захисне покриття (віск) для цементних підлог S.C.2010/S, 10 кг – це водоосновний засіб для обробки цементних та пористих підлог, які використовуються у промислових об’єктах, складських приміщеннях, лабораторіях і цехах. Засіб створює міцний захисний шар, стійкий до впливу олій, дизельного палива, спирту та води, що продовжує термін служби підлог.

Основні переваги:

• Стійкість до агресивних середовищ: захищає підлоги від олій, спиртів та води.
• Простота нанесення: використовується зі шваброю та мопом.
• Рівномірне покриття: забезпечує якісний захист на пористих поверхнях.
• Полегшення догляду: зменшує зношування підлог та спрощує регулярне обслуговування.

Рекомендації щодо використання:

1. Підготовка поверхні:
   • Очистіть цементну підлогу за допомогою 10% розчину D.D.1002 (1 л на 10 л води).
   • Промийте підлогу водою та видаліть залишки рідини за допомогою водососа.
2. Нанесення засобу:
   • Наносьте покриття на вологу підлогу для кращої адгезії.
   • Використовуйте швабру з мопом або спеціальний інструмент для нанесення.
   • Не виливайте засіб безпосередньо на поверхню.
3. Догляд за покриттям:
   • Для регулярного прибирання використовуйте 1–5% розчин мийних засобів D.M. або S.U.1018/UU (100–500 мл на 10 л води).
   • Застосовується для вологого або антистатичного прибирання.

Важливі моменти:

• Завжди перевіряйте адгезію на невеликій ділянці через два дні після нанесення.
• Не використовуйте засіб за температури нижче +7°C.

Технічні характеристики:

• Об’єм: 10 кг.
• Склад: водоосновна емульсія термопластичних акрилових та поліетиленових полімерів.
• Розведення: готовий засіб.
• pH: 6,9±1.
• Аромат: відсутній.
• Країна-виробник: Італія, Ecochem.

Застосування:
Рекомендується для складських, виробничих і лабораторних приміщень. Покриття підходить для підлог, які експлуатуються за високого навантаження.

Захисне покриття (віск) для цементних підлог S.C.2010/S, 10 кг забезпечує надійний захист, зменшує зношування поверхонь та полегшує догляд.